Nanodruck mit Elektronenstrahlen

Nanomaterialien lassen sich direkt auf eine Oberfläche schreiben, indem Elektronen die Zersetzung von Vorstufen induzieren. Damit ist die Morphologie der Nanostrukturen kontrollierbar, und der Untergrund bleibt unbeschädigt. So entstehen etwa Spitzen für die Rasterkraftmikroskopie.

Elektronenstrahlinduzierte Abscheidung (focused electron beam induced deposition, Febid) benötigt eine gasförmige Vorstufe (Precursor), die sich lokal durch den Elektronenstrahl in einem Rasterelektronenmikroskop (REM) in ein oberflächengebundenes Material umwandeln lässt.¹⁾ Hierbei schreibt ein fokussierter Elektronenstrahl einzelne Pixel oder Linien auf eine Substratoberfläche und baut damit sukzessive die Form der gewünschten Nanostruktur auf.

Die computergesteuerte Kontrolle des Elektronenstrahls mit lokaler Verweildauer und exakter Positionierung lässt sich nutzen, um komplexe Geometrien oder Heterostrukturen aus verschiedenen Materialien herzustellen. Dabei scheiden sich durch die Bewegung eines Elektronenstrahls simultan Nanostrukturen ab, die vorab am Computer definiert wurden. So lassen sich Punkte, Säulen und Wände bis hin zu komplexen dreidimensionalen Objekten schre

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